Leica 離子束剖面研磨 (CP)
產品介紹
Leica真空濺鍍機－EM ACE系列
汎達嚴選代理國際大廠Leica，進口EM ACE系列產品，為您提供使用電子顯微鏡分析時，不可或缺的真空濺鍍機(金屬濺射鍍膜、碳絲蒸發鍍膜、e-beam、glow discharge)，汎達讓您更方便取得優質的產品及專業的服務，成為您實驗室有力的幫手。
EM ACE 系列濺鍍機有兩種版本：用於常規 SEM 和 TEM 分析的 EM ACE200 低真空濺鍍機，以及用於最高分辨率 TEM 和FE-SEM 分析的 EM ACE600 高真空濺鍍機。
EM ACE 系列濺鍍機有兩種版本：用於常規 SEM 和 TEM 分析的 EM ACE200 低真空濺鍍機，以及用於最高分辨率 TEM 和FE-SEM 分析的 EM ACE600 高真空濺鍍機。
說明
EM ACE 200 特色
EM ACE 200是一款低真空濺鍍機，設計用於電子顯微鏡所需的均勻的導電金屬層或碳層。可以將全自動儀器配置為濺鍍機（II）或碳線蒸鍍機（I）。 或者將兩種模式都運用在此機台上交替使用。
可選配：
- 石英晶體感應器–用於測量膜厚，確保每次膜厚具有一致性
- 行星旋轉載台–使濺鍍材料均勻分佈在樣品上
- 輝光放電–用於清潔TEM銅網，使其具有親水性
規格
| EM ACE 200 鍍金機規格 | |
|---|---|
| 機台尺寸 | 450 mm (H) X 260mm (D) X 510 mm (W) |
| 腔體尺寸 | 150 mm (H) X 140mm (D) X 145 mm (W) |
| 樣品台 |
Dia. 80mm, for 25個 12.7mm SEM stub) Dia. 104mm, 旋轉載台 for 6個 3.2mm SEM stub) |
| 樣品台傾斜角度 | 1°-60° |
| 靶材尺寸 |
Dia. 54mm X 1mm(Max.) 濺度壓力: 1E-1至 8E-3 mbar |
| 工作距離 | min. 30mm, max.100mm |
| 作動角度 | 25° |
| 電壓 | 100-240 VAC / 50 - 60 HZ 單相 |
| 功率(閒置) | 100 W |
| 重量 | 35 kg |
| 操作介面 | 觸控式螢幕 |
| USB端口 | ≤ 2 GB |
| 氣體 | 氬氣，0.5 bar, 純度99.99％ |
| 耗氣量 | 18 sccm |
| pump |
無油式, 13 l/min turbo pump, 67 l/sec |
| 最小真空度 | ≤ 2E-6 mbar |
| 濺鍍電流 | Max. 150mA |
| 作動功率 (濺鍍, 碳絲) | Max. 200W |
| 作動功率 (e-beam, 碳棒) | Max. 1000W |
| 抽真空速度 | to 7E-3 mbar, approx. 2 min |
| 碳絲 | ~25g/m, 脈衝模式 or 閃蒸模式 |
| 碳棒 | Dia. 3mm |
| E-Beam | - |
| 時間範圍 | 1-1800sec |
| 鍍層厚度 | 1-1000nm |
