EM ACE 200 真空濺鍍機
Leica真空濺鍍機-EM ACE系列
汎達嚴選代理國際大廠Leica,進口EM ACE系列產品,為您提供使用電子顯微鏡分析時,不可或缺的真空濺鍍機(金屬濺射鍍膜、碳絲蒸發鍍膜、e-beam、glow discharge),汎達讓您更方便取得優質的產品及專業的服務,成為您實驗室有力的幫手。
EM ACE 系列濺鍍機有兩種版本:用於常規 SEM 和 TEM 分析的 EM ACE200 低真空濺鍍機,以及用於最高分辨率 TEM 和FE-SEM 分析的 EM ACE600 高真空濺鍍機。
EM ACE 200 特色
EM ACE 200是一款低真空濺鍍機,設計用於電子顯微鏡所需的均勻的導電金屬層或碳層。可以將全自動儀器配置為濺鍍機(II)或碳線蒸鍍機(I)。 或者將兩種模式都運用在此機台上交替使用。
可選配:
- 石英晶體感應器–用於測量膜厚,確保每次膜厚具有一致性
- 行星旋轉載台–使濺鍍材料均勻分佈在樣品上
- 輝光放電–用於清潔TEM銅網,使其具有親水性
規格
EM ACE 200 鍍金機規格 | |
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機台尺寸 | 450 mm (H) X 260mm (D) X 510 mm (W) |
腔體尺寸 | 150 mm (H) X 140mm (D) X 145 mm (W) |
樣品台 | Dia. 80mm, for 25個 12.7mm SEM stub) Dia. 104mm, 旋轉載台 for 6個 3.2mm SEM stub) |
樣品台傾斜角度 | 1°-60° |
靶材尺寸 | Dia. 54mm X 1mm(Max.) 濺度壓力: 1E-1至 8E-3 mbar |
工作距離 | min. 30mm, max.100mm |
作動角度 | 25° |
電壓 | 100-240 VAC / 50 - 60 HZ 單相 |
功率(閒置) | 100 W |
重量 | 35 kg |
操作介面 | 觸控式螢幕 |
USB端口 | ≤ 2 GB |
氣體 | 氬氣,0.5 bar, 純度99.99% |
耗氣量 | 18 sccm |
pump | 無油式, 13 l/min turbo pump, 67 l/sec |
最小真空度 | ≤ 2E-6 mbar |
濺鍍電流 | Max. 150mA |
作動功率 (濺鍍, 碳絲) | Max. 200W |
作動功率 (e-beam, 碳棒) | Max. 1000W |
抽真空速度 | to 7E-3 mbar, approx. 2 min |
碳絲 | ~25g/m, 脈衝模式 or 閃蒸模式 |
碳棒 | Dia. 3mm |
E-Beam | - |
時間範圍 | 1-1800sec |
鍍層厚度 | 1-1000nm |